選擇產(chǎn)品分類(lèi)
工業(yè)設備
高速乳化機
高速均質(zhì)機
研磨分散機
高速膠體磨
高速分散機
研磨機
濕磨機
濕法粉碎機
粉液混合機
攪拌機
真空乳化機
實(shí)驗室設備
研發(fā)設備
實(shí)驗室中試設備
研磨分散機
分散機CM2000
CM2000系列是專(zhuān)門(mén)為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機
分散機CMO2000
CMO2000實(shí)在CM2000基礎上的進(jìn)一步優(yōu)化產(chǎn)品,有著(zhù)更新的技術(shù)創(chuàng )新。錐形刀具間隙可調節至最小,來(lái)減小顆粒粒徑,從而可獲更細的懸浮液。由于這項創(chuàng )新,CMO2000系列錐體磨(膠體磨)能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小。 錐體磨(膠體磨)的研磨間隙可以無(wú)級調節,從而可以得到精確的研磨參數。
研磨分散機
分散機CMD2000
研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
研磨分散機
分散機CMSD2000
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,CMSD系列的線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,凹槽在每級都可以改變方向;同時(shí),高質(zhì)量的表面拋光和結構材料可滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機
分散機CMXD2000
CMXD2000系列定轉子被制成圓錐形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,同時(shí),每級凹槽都可以改變方向。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。